耐腐蚀制程应用

BOILPEAK   有着超过15年以上的卓越制造经验,与时俱进不断的发展与创新,面对严苛的制程条件,我们致力于提供各种解决方案,持续开发新的特殊弹性体材料并同步提供最佳的密封解决方案。

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薄膜制程  TF

蚀刻制程  Etch

扩散制程  Diff

薄膜制程分为CVD(化学气相沉积)PVD(物理气相沉积)两种沉积方式均会对制程密封应用来说有这不同的考验。

蚀刻制程环境分为Dry Ethching(干式蚀刻),Wet Etching(湿式蚀刻)。蚀刻制程上主要使用高强度电浆与不同的化学品均会对制程密封应用来说有着不同的考验。

扩散制程分为 lon lmplantation(离子植入),Diffusion(扩散)。扩散制程上主要使用极高的温度与不同的化学品均会对制程密封应用来说有着不同的考验。

耐腐蚀产品系列

Boilpeak    广泛创新O型圈及系列产品,与客户一起从中国找出与产业应用的优秀搭配组合。

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产品特性苛刻化学品溶剂耐受性

                    极低的金属离子含量

                    溶剂中析出物少

                    低压变机械性能好

 

产品应用湿法刻蚀

                    光刻显影

                    晶圆清洗

                    液体管道传输

 

产品制程:Wet Etch、Pumpline、Filter

UTchem™  KR715

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产品特性高硬度耐磨自润滑

                    优异的等离子耐受性

                    高压力密封稳定性好

                    低气体渗透率

 

产品应用gate valve门密封

                    控制阀/蝶阀密封

                    干法刻蚀腔体

                    截止阀密封圈

 

产品制程:Dry Etch、PVD

UTchem™  KR820

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产品特性苛刻化学品溶剂耐受性

                    极低的金属离子含量

                    溶剂中析出物少

                    低压变机械性能好

 

产品应用湿法刻蚀

                    光刻显影

                    晶圆清洗

                    液体管道传输

 

产品制程:Wet Etch、Dry Etch

UTchem™  KR720

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产品特性优异的等离子耐受性

                    高压力密封稳定性好

                    低气体渗透率

                    洁净度较高

 

产品应用CVD管道气体排放

                    等离子腔体密封圈

                    气体进出口密封

                    干法刻蚀密封圈

 

产品制程:Dry Etch、PVD

UTchem™  KR245

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产品特性高硬度耐磨自润滑

                    优异的等离子耐受性

                    高压力密封稳定性好

                    低气体渗透率

 

产品应用高真空刻蚀腔体

                    gate valve门密封

                    控制阀/蝶阀密封

                    干法刻蚀腔体

 

产品制程:Dry Etch、PVD

UTchem™  KR920

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产品特性优异的等离子体耐受性

                    高真空下的密封稳定性

                    经济效益好成本低

                    支反力稳定性好

 

产品应用CVD管道气体排放

                    等离子腔体密封

                    气体进出口密封

                    隔离阀密封圈

 

产品制程:Wet Etch、Dry Etch、Pumpline

UTchem™  KR225

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