高洁净制程应用

BOILPEAK   有着超过15年以上的卓越制造经验,与时俱进不断的发展与创新,面对严苛的制程条件,我们致力于提供各种解决方案,持续开发新的特殊弹性体材料并同步提供最佳的密封解决方案。

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薄膜制程  TF

蚀刻制程  Etch

扩散制程  Diff

薄膜制程分为CVD(化学气相沉积)PVD(物理气相沉积)词两种沉积方式均会对制程密封应用来说有这不同的考验。

蚀刻制程环境分为Dry Ethching(干式蚀刻),Wet Etching(湿式蚀刻)。蚀刻制程上主要使用高强度电浆与不同的化学品均会对制程密封应用来说有着不同的考验。

扩散制程分为 lon lmplantation(离子植入),Diffusion(扩散)。扩散制程上主要使用极高的温度与不同的化学品均会对制程密封应用来说有着不同的考验。

高洁净产品系列

Boilpeak    广泛创新O型圈及系列产品,与客户一起从中国找出与产业应用的优秀搭配组合。

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产品特性在O和F的电浆环境中有良好                              的耐受性

                    干法刻蚀工艺耐气体腐蚀性好

                    优秀的耐高温性能、释气率很低

                    回弹性能和压变性能都很好

                 

产品应用气体进口出口密封圈

                    腔体盖子密封圈

                    截止阀密封圈

                    gate valve和slit valve门密封


产品制程Etch、Tiff、CVD

UTpure™  KS791

产品特性良好的等离子耐受性

                    优异的耐高温性能

                    极低的气体释放率

                    机械性能优异动静密封使用

                    耐臭氧性能优秀

 

产品应用气体进口出口密封圈

                    腔体盖子密封圈

                    截止阀密封圈

                   gate valve和slitvalve门密封

 

产品制程Etch、Tiff、CVD

UTpure™  KS235

产品特性极高的纯净度污染无低

                    很好的O等离子侵蚀

                    气体腐蚀重量损失小

                    优异的压变和回弹性能

 

产品应用腔体反应室密封圈

                    观察窗密封圈

                    气体进出口密封圈

                    卡箍中心支架密封圈

 

产品制程Etch、Pumpline           

UTpure™ KS230

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产品特性耐F等离子优秀

                    干法刻蚀工艺耐气体腐蚀性好

                    优秀的耐高温性能

                    释气率很低

                    回弹性能和压变性能都很好

 

产品应用支架密封垫圈

                    过滤器密封圈

                    闸阀密封圈

                    隔离阀密封圈

 

产品制程Etch、Tiff、CVD                 

UTpure™  KS732

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产品特性极低的金属离子含量

                    优秀的耐化学气体性能

                    极好的物理力学性能

                    优秀的加工性能

 

产品应用高压力腔体盖密封圈

                    钟摆阀密封圈

                    分配器密封圈

                   卡箍中心支架密封圈

 

产品制程Etch、Pumpline   

UTpure™ KS243

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产品特性极高的洁净度污染物低

                    压变性能优秀

                    金属离子含量极低

                    干刻蚀工艺性能优秀

 

产品应用气体进出口密封圈

                    传输管道密封圈

                    粘接的门板密封圈  

                    静密封于低密封低压力使用场景

 

产品制程Etch、CVD 

UTpure™ KS130

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